💻 IT и технологии

ASML готовит литографию нового поколения — Hyper NA через 10 лет уменьшит элементы чипов более чем на треть

ASML готовит литографию нового поколения — Hyper NA через 10 лет уменьшит элементы чипов более чем на треть
Фото: 3DNews

Преемник самой передовой технологии ASML для производства микросхем может появиться примерно через десять лет — на смену High NA EUV придёт Hyper NA EUV. Об этом написали в рецензируемой статье инженеры нидерландской компании, а также сотрудники поставляющей ей оптику фирмы Carl Zeiss. Источник изоб…

Полный материал — на сайте первоисточника

Мы публикуем лишь краткий анонс. Все права на материал принадлежат 3DNews.

Читать на 3dnews.ru ↗

Ещё по теме