Китай впервые показал прототип собственного источника EUV-излучения для передовой литографии
Китайская компания Landau Flint впервые публично показала прототип источника экстремального ультрафиолетового излучения (EUV), предназначенного для высокоточной фотолитографии при производстве микросхем. Разработку представили на 26-й Китайской международной промышленной выставке в Шанхае. По данным…
Мы публикуем лишь краткий анонс. Все права на материал принадлежат iXBT.
Ещё по теме
💻Sony выпустила позолоченный Walkman за $5900 — и объяснила, что золото тут не для красоты
Sony представила три модели цифровых аудиоплееров премиум-класса стоимостью от 1900 до 5900 долларов. Это первые за несколько лет новые устр…
💻Разработчик напечатал защиту для носа своей собаки — теперь её носит более 500 питомцев
Автор проекта 3D‑печатных защитных накладок SnoutCover подвёл итоги первого года продаж. Идея началась с защиты носа питбуля Билли, страдающ…
💻Учебный проект MIT превратился в одобренное устройство для уменьшения тремора
В 2017 году мужчина по имени Майкл вышел на сцену перед заполненным залом Kresge Auditorium в MIT и попытался нарисовать спираль, один из ра…
💻Довольно медленная, но зато очень компактная видеокарта. PowerColor готовит низкопрофильную Radeon RX 9050 8GB LP
Компания PowerColor, похоже, готовит компактную версию видеокарты Radeon RX 9050. В Сети появилось фото такой карты, которая, как видим, име…
💻ИИ-модели запускаются, игры (не все) идут, но батарея садится быстро: первые тесты ноутбуков на Nvidia RTX Spark
Продажи первых устройств на базе новой платформы Nvidia RTX Spark для Windows on Arm начнутся 16 октября. Системы на её базе предназначены в…
💻Hynix представила H-TPU. Очень маленький программируемый процессор, сотню которых интегрировали в контроллер SSD
Компания Hynix придумала фактически новый тип твердотельных накопителей. Или как минимум переосмыслила тот, что существует. Компания предста…